钽靶材

钽靶材又被称为钽溅射靶材

基本信息

钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材，化学纯度高，晶粒尺寸小，再结晶组织和三个轴向的一致性较好，主要应用于光导纤维，半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜，钽靶材可用于阴极溅射涂层，高真空吸气活性材料等.是重要的薄膜技术用材料。

特性

钽是蓝灰色过渡金属，高熔点金属，富有延展性、坚硬、具抗腐蚀性，钽不会与王水发生反应。

应用

钽靶材通常称为裸靶，首先将其与铜背靶进行焊接，然后进行半导体或光学溅射，将钽原子以氧化物形成淀积在基板材料上，实现溅射镀膜；钽靶材主要应用于半导体镀膜、光学镀膜等行业。在半导体工业中，目前主要使用金属钽通过物理气相沉积法镀膜并形成阻挡层作为靶材。

生产工艺流程

产品参数

迈腾是专业的钽靶材厂家，作为钨/钼/钽/锆靶材生产厂家，我们的产品远销海内外，如有需求，欢迎下单咨询。