溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。溅射靶材主要应用于半导体芯片，电子器件，平面显示器等
