CVD靶材

工作原理

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。

分类

按形状分类：长靶、方靶、圆靶

按化学成分分类：金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材

按应用领域分类：半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、电子器件靶材、其他靶材。

行业产业链

技术特征

CVD例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。

这种技术最初是作为涂层的手段而开发的，但不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。

其技术特征在于：

⑴高熔点物质能够在低温下合成；

⑵析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种；

⑶不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层等。特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。

迈腾是专业的CVD靶材厂家，作为CVD靶材制造商，我们的产品远销海内外，如有需求，欢迎下单咨询。